비상장뉴스

2018-08-16

[IPO] 에이피티씨, 이달 말 코스닥 입성 “





“명실상부한 글로벌 반도체 장비 전문기업으로 성장하겠다.”

최우형 에이피티씨(APTC) 대표는 10일 서울 여의도에서 열린 기업설명회를 통해 이같이 상장계획을 밝혔다.

에이피티씨는 디램(DRAM) 낸드(NAND) 등 메모리반도체를 생산하기 위한 핵심 전공정장비 중 하나인 식각장비를 개발해 생산ㆍ판매하는 업체다. 관련한 원천기술을 다수 보유하고 있다. 식각장비는 플라즈마 기체를 통해 반도체를 깍아내 회로를 만드는 장치다.

최 대표는 “당사가 보유하고 있는 적응결합형 플라즈마 소스(ACP Source)는 현재 300mm 반도체 식각장비에 적용되고 있고, 램리서치와 어플라이드머트리얼즈(AMAT) 등 글로벌 독과점 장비기업의 외산장비를 대체하고 있다”면서 
“주력 제품인 300mm 실리콘 식각장비(Poly Etcher)는 SK하이닉스에 다량 납춤돼 반도체 양산 라인에 사용되고 있다”고 설명했다.

그는 또 “최근에는 지속적인 연구 개발을 통해 기존보다 향상된 성능을 가진 300mm 폴리 식각장비(모델명 : Leo NK I-C)를 개발해 다양한 식각공정에 적용하고 있다”면서 
“향후 디램의 회로선폭 미세화, 낸드의 고적층화 및 고객사의 신규 공장 증설 등 매년 큰 폭의 매출 성장이 가능할 것”이라고 말했다.

에이피티씨는 독자기술로 반도체 식각장비를 개발해 중국 시장에도 진출했다. 올해부터 SK하이닉스 중국 우시(WUXI)법인에 장비를 공급해 현재 중국 현지의 양산 라인에 사용되고 있다. 동시에 현재 중국, 대만, 미국 등 매출처 다변화 전략을 추진하고 있다.

이 회사는 현재 SK하이닉스 연구소에서는 차세대 식각장비 테스트를 진행하고 있기도 하다. 최 대표는 “당사는 현재 주력 상품인 300mm 폴리 식각장비(Leo NK I-C) 이외에 보다 성능이 개선된
 차세대 장비(Leo NK Ⅱ) 개발을 올해 연말까지 완료할 것”이라면서 “곧바로 Leo NK Ⅲ에 대한 개발을 진행해 내년 연말까지 개발을 완료할 예정”이라고 전했다.

그러면서 “300mm 산화막 식각 장비 및 TSV(실리콘 관통전극) 식각 장비에 대한 개발도 검토하고 있어 명실상부한 글로벌 반도체 장비 전문기업으로 성장을 지속할 것”이라고 강조했다.

한편, 에이피티씨는 2015년 44억 원에서 2016년 379억 원, 2017년 411억 등 지속해서 성장하고 있다. 올해 1분기에는 203억 원의 매출을 기록했다. 반기누적 결과로는 이미 작년 매출에 해당하는 약 410억 원을 달성했다.

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